基本信息：

申购单号：CM************

签约时间：

申购主题：原子层沉积系统

送货时间：合同签订后30天内送达

******大学

安装要求：免费上门安装（含材料费）

报价要求：国产含税

收货地址：重庆市/市辖区/北碚区/****

发票类型：增值税专用发票

币种：人民币

预算：******

付款方式：货到验收合格后付款

备注说明：各竞标商须知：1.所有货物要求免费送货上门、免费安装调试、原厂包装，竞标商如不能提供免费送货上门和免费安装调试，必须注明，申购用户认可的，方可成交。2.成交金额在5万元以上的，供方应在质量验收合格后，需方支付货款前，成交厂商向需方交纳成交总金额的5%作为质保金。质保金******************银行行号： ******0474；质保金退还事宜联系电话：******；4.如竞标货物为进口的，必须填写品牌、型号、厂家、产地，并在报价说明里面填写报价方式为DDP/DAP等，如不填写报价方式的则默认为DDP报价。5.合同模板请见：******/s/sbc/sbjjjgl/******/******.html;6.请最后成交供应商必须提供增值税专用发票。

申购明细：

采购内容：原子层沉积系统

数量：1.0套

预算单价：350000.0

品牌：普迪

型号：ALD-T100G

规格参数：[{\key\:\1\,\value\:\一、设备组成和基本要求\
1、外热式反应腔体（对标Vecco S100）\
2、样品尺寸：可放置100mm*100mm方片及以下尺寸\
3、3 路前驱体源系统（包括2路金属源和1路水源）\
4、高性能真空系统和残余前驱体源处理热阱\
5、自动控制沉积系统和工艺压力实时检测显示\
二、技术指标：\
1、ALD反应腔体结构\
a.腔室：外热式单腔腔室，加热结构在真空室外，反应腔室维护保养无需拆卸腔室加热器或样品台加热器；\
b.样品台配有可拆卸片托，可放下最大100mm*100mm方片及以下尺寸；\
*c.反应温度：最高150℃,温度控制精度±1℃。\
2、ALD前驱体源系统\
*a．2路标准加热前驱体源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动隔膜阀和50 mL不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度室温至200 ℃,控制精度±1℃;\
*b.1 路水源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动球阀和50 mL不锈钢源瓶；\
c.含两路载气系统，全套管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能；\
3、ALD真空系统\
*a．高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7Pa·L/s；\
b．配置机械泵，额定抽速≥40 m3/h；\
c.真空泵前级配置热阱，加热温度最高600℃, 控制精度±1℃,用于吸附、分解未反应的前驱体源；\
d.压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过滤网，沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。\
4、ALD主机：\
a. 高精度PLC+4U工控机+显示器沉积自动控制系统，满足原子层沉积工艺的要求；\
b.可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；\
c.多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；\
d.沉积模式：连续模式、停流模式；\
e.人机界面：外置移动支架显示器操作。\
5、ALD工艺指标\
a. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化铝，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；\
b. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化锡，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%为合格。\
配置与规格：\
1、吹扫流量计：2路N2吹扫质量流量计，流量计控制精度为满量程的1%；\
2、控制硬件：PLC+4U工控机+显示器操作，具有压缩空气欠压报警功能可防止失压导致的\
CVD反应引起系统严重污染以及防温度失控硬件保护功能，保障ALD仪器运行的安全性；\
3、自动控制软件：可以用软件在计算机上设定薄膜沉积条件及工艺参数，能全自动运行，\
并可以显示系统运行中的各个参数；控制设备的各个单元包括真空泵、加热温度、气体流量、\
沉积压强以及配方参数运行状态等；控制软件能够记录阀门开关次数和累计运行次数；\
4、电源：50-60Hz，功率12KW，380VAC交流电源；\
5、1年免费质保期，自验收之日起计算。提供完善的技术支持与售后服务，在接到买方报修\
通知后2小时内给予答复，4小时内能够到达现场提供服务。保修期外的维修不收人工费，更换部件只收成本费。\
******学校进行数量验收，达到要求后供货方支付25%履约保证金，需方支付100%合同金额，待验收完成后支付20%履约保证金，余下5%为质保金，1年后无遗留问题支付。需方不组织统一现场踏勘，请各供应商自行前往现场踏勘并充分了解项目情况、运输道路、安装空间及环境、装卸限制及任何其它足以影响报价的情况，任何因忽视或误解项目情况而导致的索赔或交货期延长申请将不获批准。无论供应商是否踏勘过现场，均被认为在递交投标文件之前已经踏勘现场，对本合同项目的风险和义务已经十分了解，并在其投标文件中已充分考虑了现场和环境条件。供应商需自行负责在踏勘现场中所发生的人员伤亡和财产损失，现场踏勘所发生的费用由供应商承担\
\
\,\important\:true}]

质保及售后服务：按行业标准提供服务

采购内容：原子层沉积系统

数量：1.0套

预算单价：350000.0

品牌：合肥聚盛

型号：JS-200

规格参数：[{\key\:\1\,\value\:\一、设备组成和基本要求\
1、外热式反应腔体（对标Vecco S100）\
2、样品尺寸：可放置100mm*100mm方片及以下尺寸\
3、3 路前驱体源系统（包括2路金属源和1路水源）\
4、高性能真空系统和残余前驱体源处理热阱\
5、自动控制沉积系统和工艺压力实时检测显示\
二、技术指标：\
1、ALD反应腔体结构\
a.腔室：外热式单腔腔室，加热结构在真空室外，反应腔室维护保养无需拆卸腔室加热器或样品台加热器；\
b.样品台配有可拆卸片托，可放下最大100mm*100mm方片及以下尺寸；\
*c.反应温度：最高150℃,温度控制精度±1℃。\
2、ALD前驱体源系统\
*a．2路标准加热前驱体源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动隔膜阀和50 mL不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度室温至200 ℃,控制精度±1℃;\
*b.1 路水源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动球阀和50 mL不锈钢源瓶；\
c.含两路载气系统，全套管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能；\
3、ALD真空系统\
*a．高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7Pa·L/s；\
b．配置机械泵，额定抽速≥40 m3/h；\
c.真空泵前级配置热阱，加热温度最高600℃, 控制精度±1℃,用于吸附、分解未反应的前驱体源；\
d.压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过滤网，沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。\
4、ALD主机：\
a. 高精度PLC+4U工控机+显示器沉积自动控制系统，满足原子层沉积工艺的要求；\
b.可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；\
c.多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；\
d.沉积模式：连续模式、停流模式；\
e.人机界面：外置移动支架显示器操作。\
5、ALD工艺指标\
a. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化铝，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；\
b. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化锡，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%为合格。\
配置与规格：\
1、吹扫流量计：2路N2吹扫质量流量计，流量计控制精度为满量程的1%；\
2、控制硬件：PLC+4U工控机+显示器操作，具有压缩空气欠压报警功能可防止失压导致的\
CVD反应引起系统严重污染以及防温度失控硬件保护功能，保障ALD仪器运行的安全性；\
3、自动控制软件：可以用软件在计算机上设定薄膜沉积条件及工艺参数，能全自动运行，\
并可以显示系统运行中的各个参数；控制设备的各个单元包括真空泵、加热温度、气体流量、\
沉积压强以及配方参数运行状态等；控制软件能够记录阀门开关次数和累计运行次数；\
4、电源：50-60Hz，功率12KW，380VAC交流电源；\
5、1年免费质保期，自验收之日起计算。提供完善的技术支持与售后服务，在接到买方报修\
通知后2小时内给予答复，4小时内能够到达现场提供服务。保修期外的维修不收人工费，更换部件只收成本费。\
******学校进行数量验收，达到要求后供货方支付25%履约保证金，需方支付100%合同金额，待验收完成后支付20%履约保证金，余下5%为质保金，1年后无遗留问题支付。需方不组织统一现场踏勘，请各供应商自行前往现场踏勘并充分了解项目情况、运输道路、安装空间及环境、装卸限制及任何其它足以影响报价的情况，任何因忽视或误解项目情况而导致的索赔或交货期延长申请将不获批准。无论供应商是否踏勘过现场，均被认为在递交投标文件之前已经踏勘现场，对本合同项目的风险和义务已经十分了解，并在其投标文件中已充分考虑了现场和环境条件。供应商需自行负责在踏勘现场中所发生的人员伤亡和财产损失，现场踏勘所发生的费用由供应商承担\
\
\,\important\:true}]

质保及售后服务：按行业标准提供服务

采购内容：原子层沉积系统

数量：1.0套

预算单价：350000.0

品牌：科民电子

型号：tald-150d2

规格参数：[{\key\:\1\,\value\:\一、设备组成和基本要求\
1、外热式反应腔体（对标Vecco S100）\
2、样品尺寸：可放置100mm*100mm方片及以下尺寸\
3、3 路前驱体源系统（包括2路金属源和1路水源）\
4、高性能真空系统和残余前驱体源处理热阱\
5、自动控制沉积系统和工艺压力实时检测显示\
二、技术指标：\
1、ALD反应腔体结构\
a.腔室：外热式单腔腔室，加热结构在真空室外，反应腔室维护保养无需拆卸腔室加热器或样品台加热器；\
b.样品台配有可拆卸片托，可放下最大100mm*100mm方片及以下尺寸；\
*c.反应温度：最高150℃,温度控制精度±1℃。\
2、ALD前驱体源系统\
*a．2路标准加热前驱体源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动隔膜阀和50 mL不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度室温至200 ℃,控制精度±1℃;\
*b.1 路水源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动球阀和50 mL不锈钢源瓶；\
c.含两路载气系统，全套管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能；\
3、ALD真空系统\
*a．高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7Pa·L/s；\
b．配置机械泵，额定抽速≥40 m3/h；\
c.真空泵前级配置热阱，加热温度最高600℃, 控制精度±1℃,用于吸附、分解未反应的前驱体源；\
d.压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过滤网，沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。\
4、ALD主机：\
a. 高精度PLC+4U工控机+显示器沉积自动控制系统，满足原子层沉积工艺的要求；\
b.可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；\
c.多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；\
d.沉积模式：连续模式、停流模式；\
e.人机界面：外置移动支架显示器操作。\
5、ALD工艺指标\
a. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化铝，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；\
b. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化锡，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%为合格。\
配置与规格：\
1、吹扫流量计：2路N2吹扫质量流量计，流量计控制精度为满量程的1%；\
2、控制硬件：PLC+4U工控机+显示器操作，具有压缩空气欠压报警功能可防止失压导致的\
CVD反应引起系统严重污染以及防温度失控硬件保护功能，保障ALD仪器运行的安全性；\
3、自动控制软件：可以用软件在计算机上设定薄膜沉积条件及工艺参数，能全自动运行，\
并可以显示系统运行中的各个参数；控制设备的各个单元包括真空泵、加热温度、气体流量、\
沉积压强以及配方参数运行状态等；控制软件能够记录阀门开关次数和累计运行次数；\
4、电源：50-60Hz，功率12KW，380VAC交流电源；\
5、1年免费质保期，自验收之日起计算。提供完善的技术支持与售后服务，在接到买方报修\
通知后2小时内给予答复，4小时内能够到达现场提供服务。保修期外的维修不收人工费，更换部件只收成本费。\
******学校进行数量验收，达到要求后供货方支付25%履约保证金，需方支付100%合同金额，待验收完成后支付20%履约保证金，余下5%为质保金，1年后无遗留问题支付。需方不组织统一现场踏勘，请各供应商自行前往现场踏勘并充分了解项目情况、运输道路、安装空间及环境、装卸限制及任何其它足以影响报价的情况，任何因忽视或误解项目情况而导致的索赔或交货期延长申请将不获批准。无论供应商是否踏勘过现场，均被认为在递交投标文件之前已经踏勘现场，对本合同项目的风险和义务已经十分了解，并在其投标文件中已充分考虑了现场和环境条件。供应商需自行负责在踏勘现场中所发生的人员伤亡和财产损失，现场踏勘所发生的费用由供应商承担\
\
\,\important\:true}]

质保及售后服务：按行业标准提供服务

采购内容：原子层沉积系统

数量：1.0套

预算单价：350000.0

品牌：普迪

型号：ALD-T100G

规格参数：[{\key\:\1\,\value\:\一、设备组成和基本要求\
1、外热式反应腔体（对标Vecco S100）\
2、样品尺寸：可放置100mm*100mm方片及以下尺寸\
3、3 路前驱体源系统（包括2路金属源和1路水源）\
4、高性能真空系统和残余前驱体源处理热阱\
5、自动控制沉积系统和工艺压力实时检测显示\
二、技术指标：\
1、ALD反应腔体结构\
a.腔室：外热式单腔腔室，加热结构在真空室外，反应腔室维护保养无需拆卸腔室加热器或样品台加热器；\
b.样品台配有可拆卸片托，可放下最大100mm*100mm方片及以下尺寸；\
*c.反应温度：最高150℃,温度控制精度±1℃。\
2、ALD前驱体源系统\
*a．2路标准加热前驱体源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动隔膜阀和50 mL不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度室温至200 ℃,控制精度±1℃;\
*b.1 路水源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动球阀和50 mL不锈钢源瓶；\
c.含两路载气系统，全套管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能；\
3、ALD真空系统\
*a．高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7Pa·L/s；\
b．配置机械泵，额定抽速≥40 m3/h；\
c.真空泵前级配置热阱，加热温度最高600℃, 控制精度±1℃,用于吸附、分解未反应的前驱体源；\
d.压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过滤网，沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。\
4、ALD主机：\
a. 高精度PLC+4U工控机+显示器沉积自动控制系统，满足原子层沉积工艺的要求；\
b.可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；\
c.多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；\
d.沉积模式：连续模式、停流模式；\
e.人机界面：外置移动支架显示器操作。\
5、ALD工艺指标\
a. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化铝，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；\
b. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化锡，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%为合格。\
配置与规格：\
1、吹扫流量计：2路N2吹扫质量流量计，流量计控制精度为满量程的1%；\
2、控制硬件：PLC+4U工控机+显示器操作，具有压缩空气欠压报警功能可防止失压导致的\
CVD反应引起系统严重污染以及防温度失控硬件保护功能，保障ALD仪器运行的安全性；\
3、自动控制软件：可以用软件在计算机上设定薄膜沉积条件及工艺参数，能全自动运行，\
并可以显示系统运行中的各个参数；控制设备的各个单元包括真空泵、加热温度、气体流量、\
沉积压强以及配方参数运行状态等；控制软件能够记录阀门开关次数和累计运行次数；\
4、电源：50-60Hz，功率12KW，380VAC交流电源；\
5、1年免费质保期，自验收之日起计算。提供完善的技术支持与售后服务，在接到买方报修\
通知后2小时内给予答复，4小时内能够到达现场提供服务。保修期外的维修不收人工费，更换部件只收成本费。\
******学校进行数量验收，达到要求后供货方支付25%履约保证金，需方支付100%合同金额，待验收完成后支付20%履约保证金，余下5%为质保金，1年后无遗留问题支付。需方不组织统一现场踏勘，请各供应商自行前往现场踏勘并充分了解项目情况、运输道路、安装空间及环境、装卸限制及任何其它足以影响报价的情况，任何因忽视或误解项目情况而导致的索赔或交货期延长申请将不获批准。无论供应商是否踏勘过现场，均被认为在递交投标文件之前已经踏勘现场，对本合同项目的风险和义务已经十分了解，并在其投标文件中已充分考虑了现场和环境条件。供应商需自行负责在踏勘现场中所发生的人员伤亡和财产损失，现场踏勘所发生的费用由供应商承担\
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\,\important\:true}]

质保及售后服务：按行业标准提供服务

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